(来源:通达信趋势财经)
国产旗舰里的内存,正在悄悄换"芯"。
长鑫第五代DRAM平台量产,24GB LPDDR5X进入国产主流旗舰——没有EUV,国产DRAM第一次摸到全球顶级量产工艺的门槛。
一、用户感知:从"能用"到"首发不落后"
普通用户对内存的感知,无非"够不够大、卡不卡"。
但供应格局已经变了。不到一年时间,国产内存完成了三级跳:
| 2025.10 |
长鑫量产 LPDDR5X
,覆盖 12GB / 16GB / 24GB
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| 不到一年 |
24GB 版本进入国产主流旗舰
,大容量完成规模铺货
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| 速率里程碑 |
10667Mbps LPDDR5X
在努比亚 NaviX Ultra 量产落地——国产最高速率 LPDDR5X 首次进入量产手机
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| 全球首发 |
LPDDR6 登陆小米 18 Fold
,国产内存首次站上"首发位"
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能用 → 好用 → 首发不落后
这三步,国产内存只用了三年
二、G5 技术坐标系:没有 EUV,拿菜刀雕花
DRAM 行业不爱直接说纳米,爱用 1a、1b、1c,像小区楼栋编号。把各家最新量产平台摆到同一把尺子下,G5 的位置一目了然:
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平台
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设计尺寸
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光刻手段
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状态
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三星 1b
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约12–13nm
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约4层 EUV
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量产成熟
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三星 1c
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约11–12nm
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5–6层 EUV
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良率75%+
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SK海力士 1c
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约11–12nm
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EUV 路线
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26Q2供货
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长鑫 G5
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11.95nm
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四重曝光·0层EUV
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已量产
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坐标定位:G5 有源区半间距 11.95nm,大致卡在三星 1b 与 1c 之间,离全球最顶尖量产平台只差一口气——而且手里没有 EUV。
各家手里的"EUV 层数":
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三星 1b
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~4层
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三星 1c
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5–6层
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长鑫 G5
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0 层
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没有 EUV,长鑫用 DUV 多重曝光和刻蚀"拼"出精细图形,相当于拿菜刀雕花。
三项工艺,逐个拆开看:
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四重曝光(SADP/SAQP 路线)
同一张图套刻四次,套歪一次就集体翻车,对套刻精度与刻蚀均匀性的要求指数级上升。
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高介电常数金属栅
作用是降漏电、省功耗。逻辑芯片里常见,但 DRAM 电容对热预算极其敏感,适配难度不小。
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45:1 深宽比电容孔
像在一根细吸管里刷油漆,还得刷匀——孔深是孔宽的 45 倍,刻蚀和填充都是地狱级。
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硬功夫换来的结果:
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11.95nm 有源区半间距
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≥50% 每片晶圆裸片产出
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6762nm 核心功能区高度
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裸片产出提升至少 50%,规模效应一来,成本曲线就得往下走。
三、7 个月验证:比制程数字更吓人
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2023 LPDDR5
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2024 DDR5
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2025 LPDDR5X
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2026 LPDDR6 首发
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国产 DRAM 产品代际节奏:一年一个台阶
G5 从技术开发到量产验证,被压缩到 7 个月 级别。DRAM 是极复杂的品类,7 个月走完工艺定型到客户验证,说明研发效率和产线调试已经换挡。
同期巨头在爬什么坡:
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三星 1b 良率
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92%
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三星 1c 良率
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75%+
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海力士1c(Q1)
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10%
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海力士1c(Q4)
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34%
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巨头有 EUV,路径更直接;长鑫没 EUV,靠 DUV 多重曝光和工艺创新快速迭代。制程数字的差距可以量化,迭代速度的差距才是长期竞争的关键。
四、窗口期:HBM 吃香,通用 DRAM 漏风
三巨头把约 70% 的新增产能给了 HBM,通用 DRAM 供给被挤压。但 2026 年一季度,反直觉的一幕出现了:
~70%
三巨头新增产能中投向 HBM 的比例
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HBM(单片晶圆) 营收指数 毛利指数 2026Q1 起产值已低于 DDR5 64GB RDIMM
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通用 DRAM(单片晶圆) 营收:HBM 的 2 倍以上 毛利:接近 3 倍 SK海力士已放缓 HBM4 扩产,回头倾斜产能
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巨头回头,不是良心发现,是发现这边更赚钱。竞争烈度阶段性下降,给长鑫留出了产能爬坡和客户拓展的空间。
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4% 2025年二季度
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→
一年 +150%
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10% 2026年二季度
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长鑫全球 DRAM 营收份额(同比)
五、G5 之后:下一关是什么
G5 是里程碑,不是终点。下一关至少有三道:
关卡 01产能关
产能爬坡速度,决定能否真正吃到这一轮涨价红利。
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长鑫 2026年底
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~35万片/月
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美光 同期
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38.5万片/月
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长鑫 远期目标
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60万片/月
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关卡 02HBM 关
HBM3 及 HBM3E 量产已被列为 2026 年目标,但在技术积累、认证周期与大客户关系上,与三星、SK海力士仍有差距。这一关考的不只是造得出,更是进得去供应链。
关卡 03非 EUV 路线关 · 换道超车的机会
长鑫正在合肥测试键合式 DRAM 试产线:DUV 多重曝光 + 晶圆键合,绕开 EUV;3D DRAM 也被视为可能路径,业界预计 2027 年有望突破。
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长鑫路线
平面微缩被 EUV 卡住,就换维度提密度——没有包袱,反而可能率先跑通
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三星 / 海力士
现有 EUV 路线还能走,在新架构上反而相对保守
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11.95 纳米,是国产存储打到的一关
真正的考验不是某一代追平谁,而是建立一条可持续迭代、不依赖外部关键设备的技术路径。G5 证明这条路走得通——下一关,是走得快、走得远。
资料说明:本文依据长鑫存储世界制造业大会发布信息及公开行业报道整理,工艺参数、良率与份额数据以厂商披露和机构报告为准;本文为产业科普分析,不构成投资建议。
— 通达信趋势财经 · 2026.09 —
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